为了使电子显微镜中的样品能够成像，它们需要有导电性，通过在样品上形成导电层的镀膜，用来抑制电荷，减少热损伤，并提高在SEM中定位检查所需的二次电子信号。
磁控溅射仪的测试原理：在封闭腔室中，放置阳极靶材，充入气体，保持一定的真空度，在阳极和阴极之间加载高压，会发生辉光放电现象。电离的气体离子会轰击、侵蚀阳极靶材。靶材原子会因此向四周扩散，在磁力的束缚下在一定范围内沉积，z终在样品表面形成一个均匀的镀层。这个镀层可以抑制荷电，减小热损伤，提高二次电子产率，从而改善扫描电镜观察效果。
平时使用时，z常见靶材的是金靶。正是这个原因，离子溅射仪也俗称“喷金仪"。然而，为了获得更细小的晶粒尺寸、更薄的连续镀层，有时候也会使用其他靶材（比如铬、铂金、铜）。
磁控溅射仪的产品特点
样品腔尺寸：圆柱形，直径150mmx高度120mm；
样品腔真空度：极限真空度：＜0.1Pa，工作真空度：0-10Pa，恒压控制；
样品台：可以装载样品8-15个，高度可调范围为40mm；
靶材：Au靶为标配，Pt，Cu（选件）规格：直径57mmx0.1mm厚；
溅射电流：微处理器控制，安全互锁，可调，z大电流200mA，程序化数字控制；
溅射头：低电压平面磁控管，靶材更换快速，环绕暗区护罩；
真空计：皮拉尼真空计，测量范围：0.01Pa-常压；
真空泵：双级直连式高速真空泵，抽速：66L/min，真空度：10-2Pa；
厚度监控：使用高分辨厚度监控仪，精确测定所镀膜的厚度；（选配）
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